碳納米管高剪切研磨分散機

產(chǎn)品簡介

碳納米管高剪切研磨分散機是處理碳納米管的專用設(shè)備，通過高剪切力與研磨作用，打破碳納米管團聚，實現(xiàn)均勻分散。配備精準控溫與粒度監(jiān)測，適配其特殊結(jié)構(gòu)，保障分散穩(wěn)定性，提升物料活性，滿足高性能材料生產(chǎn)需求。

產(chǎn)品型號：GMSD2000

更新時間：2025-08-11

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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碳納米管高剪切研磨分散機

研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到quan方位的清洗。

碳納米管可以看做是由石墨烯卷曲而成的管狀一維納米材料，具有出色的導(dǎo)電性和力學(xué)性能。碳納米管已在鋰離子電池導(dǎo)電劑方面表現(xiàn)出優(yōu)異的應(yīng)用性能，不僅可顯著減少導(dǎo)電劑添加量，形成的管狀導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)還能有效提高極片的吸液性能。并且具有純度高、分散性好、穩(wěn)定性高、導(dǎo)電性優(yōu)異的特點，應(yīng)用于鋰離子電池導(dǎo)電劑方面優(yōu)勢明顯，在碳納米管添加量僅為Super-P10%的情況下，仍表現(xiàn)出優(yōu)于super-r的導(dǎo)電性能。

碳納米管導(dǎo)電漿料是碳納米管粉體的分散液，根據(jù)溶劑不同分為N-甲基吡咯烷酮(NP)體系和水體系兩種

碳納米管高剪切研磨分散機

3、分散設(shè)備

(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制。

(2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管

(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散"組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管分散劑用量推薦

思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

GMSD2000研分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料CI2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

碳納米管高剪切研磨分散機

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、電機形式:電源選擇:380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ電機選配件: PTC 熱保護、降噪型

研磨分散機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

碳納米管高剪切研磨分散機設(shè)備選型圖：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。