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水煤漿研磨分散機(jī)是制備水煤漿的核心設(shè)備，專注解決煤粒研磨與分散難題。通過(guò)研磨腔體內(nèi)高速運(yùn)動(dòng)的研磨介質(zhì)，產(chǎn)生沖擊、剪切力，將煤粒細(xì)化至適配粒度，同時(shí)讓添加劑均勻包覆顆粒，提升漿體流動(dòng)性與穩(wěn)定性。設(shè)備適配高固含量制漿需求，運(yùn)行高效，助力水煤漿在能源領(lǐng)域的清潔燃燒應(yīng)用。
更新時(shí)間：2025-10-30
產(chǎn)品型號(hào)：GM2000
瀏覽量：115
管線式研磨分散機(jī)是連續(xù)化處理物料的高效設(shè)備，核心用于液體介質(zhì)中顆粒的研磨與分散。它通過(guò)管線式結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)進(jìn)料、處理與出料，借助高速旋轉(zhuǎn)的定轉(zhuǎn)子或研磨介質(zhì)產(chǎn)生剪切、研磨力，細(xì)化顆粒并打散團(tuán)聚，適配大規(guī)模量產(chǎn)場(chǎng)景。設(shè)備適配涂料、油墨、醫(yī)藥等領(lǐng)域，處理效率高、產(chǎn)物均勻，且易清潔維護(hù)，滿足連續(xù)化生產(chǎn)對(duì)穩(wěn)定性與效率的需求。
更新時(shí)間：2025-10-30產(chǎn)品型號(hào)：GM2000瀏覽量：119
實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是小型化物料處理設(shè)備，專為研發(fā)階段的樣品研磨、分散實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。它通過(guò)高剪切或研磨組件，將少量物料（毫升至升級(jí)）細(xì)化至微米 / 納米級(jí)，精準(zhǔn)控制粒徑，適配醫(yī)藥、材料、食品等領(lǐng)域的配方研發(fā)。設(shè)備體積小、操作便捷，支持多種容器適配，且易清潔防交叉污染，滿足實(shí)驗(yàn)室小批量、高精度的處理需求。
更新時(shí)間：2025-10-30產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000瀏覽量：123
催化劑研磨分散機(jī)，是用于催化劑制備的專用設(shè)備，通過(guò)剪切、沖擊、研磨作用處理催化劑物料。它能將催化劑顆粒細(xì)化并均勻分散，提升比表面積與反應(yīng)活性，保障催化效率穩(wěn)定。設(shè)備適配多種催化劑類型，可調(diào)節(jié)參數(shù)滿足不同工藝需求，廣泛應(yīng)用于化工、能源等領(lǐng)域的催化反應(yīng)體系。
更新時(shí)間：2025-10-29產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000瀏覽量：113
醫(yī)藥二氧hua鈦分散機(jī)是處理藥用級(jí)二氧hua鈦的專用設(shè)備，通過(guò)高剪切、超聲波等作用破解粉體團(tuán)聚。它能將顆粒細(xì)化至規(guī)定粒徑（0.2-0.5μm），實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布，保障其作為藥用輔料的增白、遮光效果。設(shè)備符合醫(yī)藥衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，廣泛用于片劑包衣、藥用油墨等生產(chǎn)場(chǎng)景。
更新時(shí)間：2025-10-29產(chǎn)品型號(hào)：GRS2000瀏覽量：104
石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)是處理該漿料的專用設(shè)備，能破解石墨烯易團(tuán)聚難題。通過(guò)高剪切、研磨作用，將漿料顆粒細(xì)化并均勻分散，提升漿料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性，適配不同濃度漿料需求。設(shè)備耐 NMP 腐蝕，符合工藝標(biāo)準(zhǔn)，廣泛用于新能源、電子等領(lǐng)域的石墨烯漿料制備。
更新時(shí)間：2025-10-29產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000瀏覽量：168
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